电镀设备与工艺介绍四
发布日期:2012/7/25
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(1)整流电源
与其他工业技术相比,电镀技术的设备不仅很简单,而且有很大的变通性,以电源为例,只要是能够提供直流电的装置,就可以拿来做电镀电源,从电池到交直流发电机,从硒堆到硅整流器、从可控硅到脉冲电源等,都是电镀可用的电源。其功率大小既可以由被镀产品的表面积来定,也可以用现有的电源来定每槽可镀的产品多少。
当然,正式的电镀加工都会采用比较可靠的硅整流装置,并且主要的指标是电流值的大小和可调范围,电压则由0~15V随电流变化而变动。根据功率大小而可选用单相或三相输入,要能防潮和散热。工业用电镀电源一般从l00A到几千安不等,通常也是根据生产能力需要而预先设计确定的,最好是单槽单用,不要一部电源向多个镀槽供电。如果只在实验室做试验,则采用5~1OA的小型实验整流电源就行了。
1993年我国机械工业部组织专家编制了电镀用整流设备的标准(JB/T1504-1993),对我国设计和生产的电镀整流器的型号、规格、技术参数等都作出了相关规定。随着电力科学技术的进步,近年来在整流电源的设计和制作上已经有很大改进,很多电镀电源已经向多功能、大功率、小体积等方向发展。周期换向、可调脉冲、平滑调节等都已经是常见的功能。常用的风冷式可控硅整流器的技术规格见表1。
表1常用可控硅整流设备的技术规格
输出电流/A
|
输出电压/V
|
交流输入
|
输出精度
|
预置功能
|
外形尺寸参考长/mm×宽/mm×高/mm
|
500
500
500
1000
1000
1000
1500
1500
2000
2000
3000
3000
4000
4000
5000
5000
6000
6000
8000
10000
12000
|
12
24
50
12
24
50
12
24
12
24
12
24
12
24
12
24
12
24
24
24
24
|
3相交流
(50±1)H2
380V土10%
|
电压控制
±1%电流控制士1%电流密度
控制士2%
|
预置时间最大
9999min
预置电量最大
9999A·h
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550×400×850
600×450×950
700×550×1150
600×450×950
700×550×1150
700×550×1150
600×450×950
700×550×1150
700×550×1150
850×650×1350
700×550×1150
850×650×1350
850×650×1350
850×650×1350
850×650×1350
1000×800×1750
1000×800×1750
1000X800×1750
1200×1000×2100
1200×1000×2100
1400×1100×2100
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